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NONSEQUITUR 双等离子发射器离子枪离子源 气相离子源ION GUNS MODEL 1407 气相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可调节

NONSEQUITUR 双等离子发射器离子枪离子源 设计特点

紧凑型离子源，双等离子发射器

可调节的束斑， ≥ 15µm ，用于空间定义的溅射
可调节发射，提供稳定的束流，前面板可调动态范围 x300
连续可变电子束能量，最高达 5keV
用于电子束扫描和校正的双电极
用于减小束斑大小的预目标透镜偏转
集成束流大小监测
灯丝不直接到样品，避免不必要的样品污染
可更换电子束修剪孔径板，典型使用寿命> 500 hours
提供双灯丝备份
内部源压力传感器，允许监控离子源压力
采用适合超高真空和耐蚀刻的材料
差速泵，以尽量减少主腔室气体负载
在惰性气体下运行

离子源（英文名称：Ion source）是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的部件。

气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子，并被引出成束。根据不同的使用条件和用途，已研制出多种类型的离子源。使用较广泛的有弧放电离子源、PIG离子源、双等离子体离子源和双彭源这些源都是以气体放电过程为基础的,常被笼统地称为弧源。高频离子源则是由气体中的高频放电来产生离子的，也有广泛的用途。新型重离子源的出现，使重离子的电荷态显著提高,其中较成熟的有电子回旋共振离子源(ECR)和电子束离子源(EBIS)。负离子源性能较好的有转荷型和溅射型两种。在一定条件下，基于气体放电过程的各种离子源，都能提供一定的负离子束流。

离子源是一门具有广泛应用领域的学科，在许多基础研究领域如原子物理、等离子化学、核物理等研究中，离子源都是十分重要的设备。

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