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美国kimball physics EMG-4193电子枪系统

Kimball Physics 电子枪，其设计用于各种超高真空 (UHV) 表面物理、空间物理和处理应用

EMG-4193 / EGPS-4190 / COPS-4190

带有匹配的 EGPS-4190 电源和 COPS-4190 柱光学装置的 EMG-4193 电子枪是一个完整的子系统，可随时连接到用户的真空系统。可选的光发射可以通过系统的视口聚焦用户提供的电磁辐射源来实现。EMG-4193 可以提供能量从 1 keV 到 30 keV 和电流从 1 nA 到 10 µA 的电子。该枪使用 (LaB 6 ) 阴极提供小至 25 µm 的小光斑，使用寿命长达数千小时。还可以对光束进行光栅化以对目标成像。应用包括表面物理和真空物理实验。

能量范围： 1 keV 至 30 keV
光束电流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 25 µm 至 500 µm
安装：4½CF
特性/选项：光发射、操作时内部对准、静电聚焦、四极对准、八极偏转/光栅/象散器、光束消隐、差分泵浦

美国kimball physics EMG-4193电子枪系统

Kimball Physics 电子枪，其设计用于各种超高真空 (UHV) 表面物理、空间物理和处理应用。喷枪可聚焦小光斑，用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用；或用于泛光束，用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。

操作范围：

● 能量范围：1 eV 至 100 keV
● 射束电流范围：1 nA 至 20 mA
● 光斑尺寸范围：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

优势：

● 客户可更换的点火装置
● 操作期间的机械对准
● 可存储的控制设置
● 电脑遥控/计量

性能：

● 光束电流稳定性：反馈稳定的发射电流控制；优于每小时 ± 0.1%
● 能量稳定性：每小时 ± 0.01%，满输出时每 8 小时 ± 0.02%，以最大限度地减少色差

应用：

● 快速脉冲/光束消隐
● 偏转/光栅
● 枪式法拉第杯

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美国kimball physics EMG-4193电子枪系统

EMG-4193 / EGPS-4190 / COPS-4190

美国kimball physics EMG-4193电子枪系统

Kimball Physics 电子枪，其设计用于各种超高真空 (UHV) 表面物理、空间物理和处理应用。喷枪可聚焦小光斑，用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用；或用于泛光束，用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。

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